Principio delle tecnologie al plasma di AcXys Technologies
AcXys Technologies ha sviluppato tutte le sue tecnologie al plasma, perfezionando l’elettronica di potenza incorporata nei suoi generatori e sviluppando sorgenti al plasma ad altissime prestazioni.
Queste tecnologie al plasma consentono di offrire un’elevata velocità di lavorazione, compatibile con applicazioni industriali in un’ampia varietà di materiali.
L’impatto del trattamento al plasma sulle superfici
Poiché lo stato del plasma ha una reattività chimica significativa, può essere utilizzato per modificare la superficie estrema di molti materiali. Per ottenere questo risultato è sufficiente dirigere il flusso di specie gassose reattive verso la superficie da trattare.
Ciò si traduce in 3 tipi principali di reazioni chimiche utili per il trattamento superficiale.
PULIZIA E DECONTAMINAZIONE
Le tecnologie al plasma sono in grado di rimuovere strati estremamente sottili di contaminazione superficiale, sia essa di natura organica o idrocarburica.
In alcune applicazioni, vengono spesso utilizzati in aggiunta alle tecnologie di pulizia con liquidi.
ATTIVAZIONE DI SUPERFICIE
L’attivazione della superficie mira a modificare la superficie superiore di un materiale, aggiungendo atomi o molecole.
Questo semplice processo è ampiamente utilizzato nell’industria, specialmente per applicazioni progettate per aumentare la capacità di adesione di una colla, inchiostro, pittura o vernice.
Per l’attivazione della superficie o la pulizia della finitura, AcXys Technologies ha sviluppato gamme di prodotti ULS e ULD.
DEPOSITO DI FILM SOTTIE
Le tecnologie al plasma sono utilizzate anche nel processo di deposizione di strati sottili di materiali con proprietà specifiche sulle superfici da modificare.
Per fare ciò, è sufficiente iniettare sostanze chimiche liquide o gassose (precursori) nel plasma per depositare strati sottili.
AcXys Technologies ha sviluppato l’attrezzatura ULCoat per il reparto film SiO2.