AcXys Technologies的等离子体技术

在AcXys Technologies,令我们引以为豪的等离子体技术是完全独立自主开发的,包括集成在主机中​的可控功率电子装置,和性能出色的的等离子体源。

我们所开发的等离子体技术与设备,使高速处理材料成为可能,并能与工业应用中涉及的多种材料兼容。

等离子体处理对材料表面的影响

等离子体其显著的化学反应性,可以用来改造许多材料的表面。为了获得这一结果,只需将参与反应的气流引向待处理的表面即可。

由此产生的可用于表面处理的化学反应可分为以下三类

清洁与去污

等离子体技术能够去除极薄的表面污染层,无论是有机物还是碳氢化合物。

除了基于液体的清洁技术外,在某些应用场景下也会使用等离子体清洁。

表面活化

表面活化是通过向材料表层添加原子或分子的方式,改变材料表面性质的过程。

这一工艺现已被广泛应用在工业生产中,尤其是当涉及到需要增强粘合剂、油墨、油漆或清漆的附着力时。

AcXys Technologies的ULS系列ULD系列产品,便是为表面活化或表面清洁所开发的产品。

薄膜沉积

等离子体技术同样也会被应用在薄膜沉积的工艺中。

可通过将待沉积的液态或气态化学制品与等离子体混合,最终沉积在材料表层。

我们为此开发了ULCoat系列产品,它具备沉积SiO2薄膜的能力。